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上海2013年6月17日电 /美通社/ -- 盛美半导体设备（上海）有限公司接获SK海力士半导体（中国）有限公司的一台12英寸8腔SAPS兆声波单片清洗设备订单，预计7月中旬交货。这是暨2013年年初至今，盛美获得的第7台清洗设备订单，也是暨2011年获得韩国海力士清洗设备后的重复订单。
“盛美已经进入快速成长期，该重复订单的获得，证明了韩国一流半导体制造厂商对盛美单片清洗设备优越清洗性能以及大生产线上运行可靠性的肯定。”盛美半导体设备公司的创始人、首席执行官王晖博士说，“我们将继续扩展国内外客户群，有信心使SAPS兆声波这一个具有差异性的清洗技术在28纳米以下技术节点成为行业主流技术。”
这台单片清洗机装备了盛美的SAPS（Space Alternated Phase Shift）空间交变相移技术，以及三种独立化学液的供液系统。可去除传统清洗方法无法去除的微小颗粒以及化学烟雾沉积，从而在清洗后芯片良率上获得较大提升。
关于盛美
盛美半导体设备公司于1998年在美国硅谷成立，致力于研究无应力抛光与镀铜设备。2006年9月盛美开始在亚洲发展，并与上海创投一起成立盛美半导体上海合资公司。公司坐落在上海张江高科技园区，进行研究、开发、工程设计、制造 、以及售后服务。盛美精于湿式的半导体设备：无应力抛光、镀铜、与兆声波单片清洗设备。盛美具有完整的自主知识产权，已经获得60多个国际专利，还有100多个专利正在申请中。盛美可以为客户提供可靠的先进技术解决方案以及世界一流的售后服务，降低设备的拥有成本。
