加州山景城2021年1月8日 /美通社/ --
凭借丰富的 iPDK 库，新思科技定制设计平台可适于各种不同的先进和传统工艺技术
新思科技（Synopsys, Inc.，纳斯达克股票代码：SNPS）近日宣布与三星晶圆厂合作开发、验证了30 多款全新的可互操作工艺设计套件 (iPDK) ，并可支持新思科技定制设计平台。这些 iPDK 广泛覆盖了三星的先进和传统节点组合。新思科技定制设计平台是速度和效率更佳卓越的设计和验证解决方案，可使版图速度提高 5 倍、设计收敛速度提高 2 倍，从而为使用各种三星工艺技术的客户提供最高生产效率。
新思科技与三星的合作范围包括一整套三星 iPDK组合、方法学和设计流程的开发和验证。新思科技还与三星合作，基于新思科技定制设计平台，利用 Custom Compiler™ 设计和版图环境，实施了一套全面的iPDK 开发和验证解决方案。所利用的环境包括 HSPICE® 电路仿真器、FineSim® 电路仿真器、CustomSim™ FastSPICE 电路仿真器、Custom WaveView™ 波形显示、StarRC™参数提取以及 IC Validator 物理验证。
三星晶圆厂设计实现团队副总裁 Jongwook Kye 表示：“我们致力于满足客户在技术和复杂定制设计方面对于深厚专业知识的需求。我们发现，市场对于新思科技定制设计平台及其设计和验证解决方案的需求越来越高。通过与新思科技这一全面定制设计和创新 EDA 解决方案的行业领导者紧密合作，我们为行业树立了基于三星工艺技术的优化流程和 iPDK 新标杆。对于新思科技的差异化设计和验证流程与解决方案，三星认证其有助于提高开发者在不同节点的效率。”
三星和新思科技的 iPDK 库多达30多种，涵盖先进全环绕栅极或 FinFET 节点（包括 3nm 到 14nm）、以及65nm 到 130nm 的传统节点，从而允许不同节点的开发者都可以使用高级功能，并可通过最新的新思科技定制实施解决方案套件，利用模拟和混合信号集成电路和 IP。每一款 iPDK 均包含文档和设计基础架构元素，例如：用于不同器件的仿真模型、图层和技术文件、用于物理和电气设计规则验证的设计规则检查（DRC）和版图与电路图运行设置文件（LVS）、寄生参数提取设置文件、电路符号库和参数化器件、以及用于帮助客户达成最佳芯片的功率和性能优化。
新思科技工程副总裁 Aveek Sarkar 表示：“如今的 IP 和模拟设计领域面临的挑战倍增，如复杂的版图规则、严格的仿真收敛要求以及紧迫的设计时间表。为了提高生产效率，开发者需要一套集成签核技术和仿真工作流程的强大定制设计平台，而非一套点工具。通过与三星等行业领导者深入合作，我们正在推动方法学、参考流程和 iPDK 方面的重大创新。我们期待与三星继续保持合作，共同追求卓越，为快速增长的市场和客户生态系统提供进一步的技术创新。”
新思科技应用工程团队总监 Ravi Rao 于 10 月 28 日出席了三星先进晶圆厂生态系统 (SAFE) 论坛，详细介绍了高效设计和验证所需的最佳方法，以及利用为三星工艺技术而优化的丰富强大的 iPDK 支持、设计流程方法和实现成果。有关新思科技产品的更多信息，请访问：https://www.synopsys.com/implementation-and-signoff.html.
