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届时将呈现先进的半导体设备腔体清洁、涂层和测试能力
宾夕法尼亚州夸克敦2017年3月8日电 /美通社/ -- QuantumClean和ChemTrace将在3月14日至16日于上海新国际博览中心举行的SEMICON China（2017国际半导体设备、材料、制造和服务展览暨研讨会）上设展（展位号为5776）。QuantumClean依托领先的技术、资源和专长，在10纳米以下高纯度半导体零件清洁市场的前沿开展经营活动，致力于生产Atomically Clean Surfaces™制程腔体零件。ChemTrace则是行业领先的半导体实验室，致力于为客户提供有关其微污染问题的重要见解。
Quantum Global Technologies, LLC首席运营官兼首席技术官大卫-扎克(David Zuck)表示：“半导体行业对更加清洁的制程腔体零件和更加严格的控制的需求继续加紧。2000年，QuantumClean制定了其首个技术路线图——预测这些相关趋势并确定可以满足该行业日益发展的需求的解决方案。在接下来的时间里，QuantumClean的研发和工程团队为解决该行业最具挑战的零件清洁与涂层相关问题，不断带来创新型解决方案，在竞争中占得先机。我们期待在SEMICON China 2017设展期间，与半导体原始设备制造商(OEM)和厂商分享我们的能力。”
20多年来，ChemTrace在晶圆与沉积、高纯度化学品、清洗室材料、去离子(DI)水和空气分子污染方面，为半导体客户提供无与伦比的微污染分析服务。此外，ChemTrace还在制程工艺工具腔体清洁效率方面，为对清洁度具有严格要求的众多领先半导体厂商、原始设备制造商和原始配件制造商(OPM)客户提供独立的分析验证服务。
ChemTrace销售总监Surjany Russell对此解释说：“由于关注为客户带来微污染意识和服务，我们成为了全球主要晶圆代工厂(FAB)和原始设备制造商的成功合作伙伴。我们使合作伙伴能在现有重要材料与流程方面具备基础的清洁能力。我们由此成为客户向下一阶段清洁水平发展的平台。这就是ChemTrace的价值所在。”
Russell女士在总结时表示：“我们的全球业务在持续拓展，例如近期在台湾台南建立一流的实验室，这使半导体行业的地区客户能直接利用我们的先进实验室，进行快速周转和专业分析。”
我们诚邀各界人士在SEMICON China 2017参观QuantumClean®与ChemTrace®展位，从而了解有关我们的服务如何帮助应对关键制程腔体制造挑战的详情。
