 |
日本东京2021年7月15日 /美通社/ -- 面向半导体、医疗保健和制药行业的分子传感和诊断产品领先制造商Atonarp今天宣布推出Aston，这是一个创新的原位半导体计量平台，集成了等离子体离子源。
Ascon是半导体生产过程计量领域的一项重大进展，可实现原位分子过程控制，并有助于现有晶圆厂更高效地运行，从而推动产量的提高。Ascon是一个用于半导体生产的强大平台，从头开始构建，可替代多种传统工具，并在一整套应用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、电介质及导体蚀刻和沉积、腔室清洁、腔室匹配和气体减排。
“通过Aston，我们看到某些应用中单位流程吞吐量增长超过40%，这是一项重大改进。即使晶圆厂总产量增长1%，也可以为一家典型的晶圆厂每年增加价值数千万美元的产量，”Atonarp创始人兼首席技术官Prakash Murthy表示，
“如果将Aston装配到现有生产工艺机具上，仅在六到八周内即可带来更高的产量，相比之下，若安装新的生产设备则需要长达一年的时间，”Murthy补充道， “这将极大地帮助制造商提高生产水平，并帮助解决当前半导体产能短缺的问题。”
快速可操作端点检测（EPD）是运行半导体机具和晶圆厂最有效的方式。到目前为止，EPD尚未能部署在许多工艺步骤中，因为所需的原位传感器无法承受恶劣的工艺或腔室清洁化学品，否则将遭受冷凝沉积物的堵塞。从历史上看，晶圆厂被迫在固定时间进行清洁来确保流程按时完成。相反，Aston通过在流程完成时进行准确检测（包括腔室清洁）来优化生产，从而将所需的清洁时间缩短高达80%。
Aston耐受腐蚀性气体和气化污染物冷凝液。它比现有解决方案更稳健，采用独立双离子源（包括一个常规电子轰击离子源和一个无灯丝等离子体发生器），能够在半导体生产遇到的恶劣条件下可靠运行。这使得Aston能够以原位状态在苛刻环境中使用。在那种环境下，传统电子式离子发生器会发生腐蚀，而且会迅速出现故障。
与传统质量分析仪相比，使用Aston的维修间隔长达100倍。它包括自清洁功能，可消除由于某些工艺中存在的冷凝物沉积而导致的污垢积累。
由于Aston会生成自己的等离子体，因此在它工作时，过程等离子体可有可无。这比发射光谱计量技术有明显的优势，因为后者需要一个等离子体源来工作，这使Aston成为原子层沉积（ALD）和某些可能使用弱等离子体、脉冲等离子体或不使用等离子体进行处理的金属沉积工艺的理想选择。
Ascon还通过提供量化、可操作的实时数据来改进工艺一致性，通过人工智能（AI）促进强大的机器学习功能，以符合要求最苛刻的工艺应用。此外，由于实时数据统计分析和工艺腔室管理的高精度、高灵敏度和可重复性，这进一步改进了生产线并提高了产品产量。
Ascon主要用于化学气相沉积（CVD）和蚀刻应用，这两种应用的年增长率均超过13%。此款光谱仪可以在新工艺腔室的组装过程中进行安装，也可将其加装到已运行的现有腔室。
Ascon还可与ATI Korea开发的智能压力控制器Psi配套使用。经过历时数月的综合可行性评估，这一组合解决方案最近被三星选购，用于先进的工艺控制应用。
Aston现可接受评估和订购，可进行直接购买或通过Atonarp的全球合作伙伴网络购买。
