北京2019年10月10日 /美通社/ -- 近日，晶澳太阳能与日本信越集团掺镓专利许可仪式在日本东京隆重举行。信越集团持有数项晶硅掺镓技术及P型掺镓硅片在电池片生产中的应用专利，此次授权后，晶澳太阳能将拥有这些专利在多个国家和地区的使用权。
目前市场上使用的基于P型掺硼硅片制成的光伏电池，长期受困于初始光致衰减（LID）问题。伴随着近些年PERC电池结构的大规模应用，P型掺硼硅片受LID问题的影响更加严峻。而采用掺镓硅片则可以不受该问题的困扰，确保P型光伏组件能够长期保持更稳定、更良好的发电性能。
晶澳太阳能董事长靳保芳表示：“晶澳历来重视创新技术的开发和应用，尊重知识产权的保护。晶澳在国内外拥有PERC双面电池技术等多项专利，是知识产权保护的支持者和受益者。我们非常感谢信越集团授予晶澳太阳能掺镓技术的专利许可，这是晶澳在引进先进技术、支持行业知识产权保护方面迈出的重要一步。这项技术的应用，必将提升晶澳太阳能电池和组件的性能和长期可靠性。未来，晶澳将通过持续的技术创新和产品性能改进，继续为全球客户提供高性能光伏产品和清洁能源解决方案。”
