马萨诸塞州比尔里卡2015年5月5日电 /美通社/ -- 美国半导体制造技术战略联盟(SEMATECH)和Exogenesis Corp.已经达成战略联盟，共同推广Exogenesis的Accelerated Neutral Atom Beam（加速中性原子束，简称“ANAB”）和他们的nAcceltm加速粒子束设备平台。SEMATECH首席执行官兼总裁Ron Goldblatt博士表示：“芯片行业正处于原子尺度处理时期。使用正在开发的ANAB将支持更好的控制和更高的制造效率，同时为半导体装置打开新功能。”
SEMATECH和Exogenesis将建立一个新公司，为半导体行业将ANAB技术推向市场。除了最初的关注集成电路制造之外，双方还将在其它纳米电子领域开发ANAB应用，这可能会形成更多公司。
ANAB技术是在深度为几纳米的情况下修改和控制具有原子级控制曲面的独特方法，已获得专利。Exogenesis总裁兼首席执行官表示：“其它技术无法达到ANAB的性能效果。”化学修饰、材料去除与沉积、曲面光顺以及表面形态控制都有可能通过ANAB平台实现。
ANAB已经被用于对药理及生物相容性进行精确控制的生物医学领域，以及支持更安全、有效的可植入医疗设备的开发。事实证明，ANAB能够为包括玻璃、金属、有机、半导体和聚合材料等各种材料界面带来好处。
SEMATECH企业发展总监Ed Barth博士表示：“"SEMATECH和 Exogenesis自2013年以来已经作为SEMATECH项目的一部分开始合作，支持半导体行业采用Extreme Ultraviolet Lithography(极紫外光刻技术，简称EUVL)。”“双方已经展示和公布了ANAB技术在提高薄硅膜透明度方面的价值，可以显著提升EUV膜的性能。” Exogenesis与SEMATECH的其它工作表明ANAB处理支持EUV掩模基板的光顺水平质量比传统方法更卓越，提高了通过他们创造的掩模坯的光学性能。这些结果发布于2014年。
位于纽约州奥尔巴尼的Exogenesis工厂以及NanoTech Complex of SUNY Polytechnic Institute的Colleges of Nanoscale Science and Engineering (SUNY Poly CNSE)将持续进行开发工作。因此，这个战略
